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拉姆研究业绩报告要点总结

一、核心财务表现(2026财年四季度)。

拉姆研究/泛林集团(Lam Research)第四财季营收达67.2亿美元(超出指引中值),季环比增长15%,同比增长30%。实现连续第四个季度创纪录增长。

非GAAP毛利率达52.0%,超出指引上限,创最近20年来单季新高(上季度为49.9%)。

非GAAP营业利润率达38.4%(上季度为35%),创历史新高。

非GAAP每股收益达1.82美元(上季度为1.50美元),创历史新高。

客户支持业务群(CSBG)营收近25亿美元,季环比增长17%,同比增长43%,连续三个季度创历史新高(主要由升级业务驱动)。

2026全财年总营收达232亿美元(创纪录),毛利率为50.6%,摊薄每股收益达5.82美元(同比增长41%)。

最近一个季度回购2.46亿美元股票,派发3.25亿美元股息,占自由现金流的45%(全年已回报自由现金流的81%)。

二、市场与业务结构亮点(设备系统收入细分)。

存储器(Memory)占系统收入的46%(上季度为39%),创下存储业务金额新高。

NAND闪存占系统收入的23%(上季度为12%),收入金额环比翻倍,主要受200+层及256+层架构升级驱动(支撑Enterprise SSD需求)。

DRAM占系统收入的23%,虽然占比因NAND大增有所拉低,但实际金额与上季度历史高位基本持平,主要投入于1-alpha、1-beta和1-gamma节点的技术升级及1C/1-gamma演进(支持DDR5、LPDDR5、HBM)。

代工(Foundry)占系统收入的44%(上季度为54%),成熟制程投资环比有所放缓,但被2nm/3nm 尖端制程及先进封装的强劲需求抵消。

逻辑及其他(Logic & Other)占系统收入的10%(上季度为7%)。

三、 技术创新与市场拓展。

1、刻蚀与沉积技术(Etch & Deposition)。

Acara(导体刻蚀平台):全球安装量已超4万个腔体。Acara专为2nm及以下环绕栅极(GAA)架构设计,目前正快速渗透至先进DRAM(赢得极具挑战的Gate Etch关键订单)。

Vector沉积平台:用于低dielectric(low-k)薄膜图案化和扩散阻挡层(Vector diffusion barrier),帮助DRAM客户将电容降低约5%,相比传统方案降低成本超20%。

Argos选择性刻蚀系统:用于表面工程,GAA架构所需的表面处理应用数量翻倍,该系统已在2nm及以下晶圆代工和DRAM中拓展。

先进封装(Advanced Packaging):通孔刻蚀(TSV Etch)与电镀(Electroplating)业务预计今年将实现超过70%的同比增长。

推出大尺寸面板级封装(Panel-level packaging)设备,已出货510×515mm开发系统及首台310×310mm面板设备。

设备智能与自动化(CSBG):Dextro 协同维护机器人(Cobots)可自动化的预防性维护任务数量增加了一倍,正从NAND快速拓展至DRAM客户。

四、行业前景与业绩指引。

1、WFE(晶圆厂设备支出)展望:将2026日历年全球WFE支出预期由原先的1,400亿美元上调至1,500亿美元左右。

随着AI技术迭代(训练、推理、代理式AI、物理AI),NAND服务市场(SAM)预计将从128层节点的每片晶圆成本在500+层架构中翻倍。

管理层看好2027年的WFE增长前景,全球预计将有8-10座新晶圆厂陆续上线。

2、当前季度指引(2027财年一季度):预计营收81亿美元(±4亿美元),环比增长超20%。

预计毛利率52.0%(±1%)。

预计每股收益(EPS)为2.15美元(±0.15美元)。

长期财务目标更新:预计将在未来几年内将SAM(可服务市场份额)提升至高30%范围(目前约在 36%~36.5%)。

目标在未来几年推动毛利率迈向50%-60%区间的中段(mid-50%),营业利润率迈向40%-50%区间的中段(mid-40%)。

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