报道：SK海力士推进EUV工艺，开始引入新材料PSM

据ZDNET报道，SK海力士正致力于推进其极紫外光刻（EUV）技术，以实现下一代DRAM的量产。公司于去年首次推出高数值孔径（High-NA）EUV设备，并于今年全面启动相关技术的研发。据悉，该公司已全面开始引入PSM，以提升EUV光刻性能。