华卓精科,攻克光刻机的最核心部件

来源: 诗与星空
2025年,中国要有自己的EUV光刻机。而华卓精科是除ASML外,全球第二家掌握光刻机核心领域——纳米级双工件台技术的公司。

2015年5月,《中国制造2025》发布,中国产业升级路线图也就跃然纸上。

ASML的EUV光刻机以各种理由迟迟不能来到中国,在各方言论讨论华为芯片制程受限的时候,很少有人回过头来,翻翻《中国制造2025》。

其中,提到光刻机,《中国制造2025》提出的是浸没式光刻机和EUV光刻机。

也就是说,2025年,中国要有自己的EUV光刻机。

距离2025年,已经过去了一半,中国的光刻机技术也受到了万众瞩目,进展怎样了?

其实,中国的光刻机技术一直在潜心研发,并且在最核心的三个领域做出了突破:极紫光源、光学镜头和双工件台。

在极紫光源方面,中国科学院长春光机所牵头研制了国家科技重大专项02专项——“极紫外光刻关键技术研究”在2016年通过了验收;

在光学镜头方面,以蓝特光学为首的获得过国家科技进步奖的专家团队正在立项研发;

在双工件台方面,清华大学团队和华卓精科实现了纳米级的突破,这项技术也是02专项,理论精度可以生产7nm的芯片。

以上核心环节,均对标ASML公司的产品。

光刻机工件台是光刻机最核心的三大模块之一,难度甚至高于极紫光源。主要功能是承载晶圆按照指定的运动轨迹做高速超精密运动并完成一系列曝光所需动作,包括上下片、对准、晶圆面型测量和曝光等。

一、华卓精科的技术实力

有消息称,上海微电子将在一年内交付可以生产28nm芯片的沉浸式光刻机。

有人说,上海微电子不过是个组装厂,没有自己的核心技术。如果按照这个逻辑,使用美国光源、德国镜头的ASML也一定是一家组装厂。

为上海微电子提供工件台的,是申报科创板的公司—华卓精科。

如果上海微电子的这台沉浸式光科技改用华卓精科最新研发的1.7nm精度的工件台,通过多重曝光,理论上可以生产7nm芯片。

2012年5月9日,清华IC装备团队在清华大学及其下属“北京-清华工业技术研究院”和02专项(感兴趣的可以去查查01专项和02专项)的支持下创立该公司,公司的领军人物是清华大学机械工程系朱煜教授。

朱教授从事超精密机械与控制等方面研究,承担973、863、国家自然基金项目10余项,现为国家重大专项项目、重点基础研究发展计划(973计划)课题负责人。

他是中组部“万人计划”首批科技创新领军人才,科技部首批重点领域“超精密机械与测控创新团队”负责人,清华大学机械电子工程研究所所长;担任国家“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”科技重大专项实施方案编制专家组和总体专家组副组长、技术副总师,装备组、光刻机组组长,光刻设备产业技术创新战略联盟专家委员会副主任。

为什么是清华?

上世纪70年代,在ASML还未成立的时候,清华大学机械系就成功的研发出了第一台步进式光刻机。但因为当时经济相对落后,PC没有普及,中国的芯片市场过于狭小而导致无法投入研发推动技术进步。

清华要重拾曾经的荣光。

公司的光刻机双工件台采用了目前最先进的磁悬浮平面电机双工件台方案,通过大推力磁悬浮平面电机驱动高速超精密六自由度承片台,每个承片台采用 9 轴超精密双频激光干涉测量,在自主开发的先进算法控制下实现纳米级分辨率及相应套刻精度指标。

华卓精科是除ASML外,全球第二家掌握纳米级双工件台技术的公司。

很多人认为ASML走了那么多弯路才有今天,中国追赶不可能那么快。其实这正是追赶者的优势,朱煜团队项目立项的时候,选择了相对落后的工件台技术,已经开始初步研发的时候,ASML最新的光刻机技术问世,采用了研发了8年的磁悬浮平面电机双工件台方案。经过重新研讨,朱煜拍板换为最新的方案,用了不到一半的时间,少走了大量弯路。

二、业绩情况

需要留意的是,公司的业绩具有一定的迷惑性。

从营收和净利润来看,公司发展还算稳健,但考虑到公司的产品受众群体非常小(这也是为什么笔者曾撰文称ASML倒闭倒计时的原因,一旦中国公司在光刻机顶尖领域实现突破,这个市场空间极小的领域就会失去平衡),所以业绩主要靠上海微电子等公司维持,大客户销售额占比超过50%。

另外,公司的研发支出非常低,只有6000多万,这并非公司“不思进取”,而是因为公司的研发主要依托于清华大学机械电子工程研究所,是国家02专项项目,无形间“节约”了大量经费。

从大客户来看,主要是芯片研发领域的中国高精尖科研单位。

三、募资用途

招股书显示,公司拟募资10.35亿元,主要用于半导体相关的研发和储备资金。

我们不荐股,但关系到中国芯片产业未来的企业,小编只有一个建议:买。

本文来源:诗与星空

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