昨日，国内光刻胶龙头供应商之一的南大光电公告：
自主研发的ArF光刻胶产品继2020年12月在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上通过认证后，近日又在逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。
光刻胶有多重要？
如果说光刻机是推动制程技术进步的“引擎”，那么光刻胶就是这部“引擎”的“燃料”。
因此光刻胶又被称为半导体材料皇冠上的明珠，行业技术壁垒和客户壁垒高。目前主要被日本、韩国和欧美国家垄断，特别是ArF浸润式（28nm及以下）以及EUV等关键节点。
光刻胶广泛应用于IC、FPD和PCB等下游领域，全球市场规模近百亿美元。
我国光刻胶产业在技术难度相对较低的PCB领域国产化率约50%，在技术难度较高的IC和FPD光刻胶领域国产化率约为5%，供需不匹配，亟需国产化。
全球光刻胶产业经历了“美国起源-日本称霸-中国崛起”的转移历程：
美国强大的经济、科技基础和半导体先发优势催生了光刻胶的起源，日本半导体产业转移、“产、学、官”体制和光刻机产业弯道超车等因素促使日本垄断全球高端光刻胶。
在国家大力扶持半导体和光刻胶材料的基础上，国内光刻产业有望遵循光刻胶与光刻机协同发展的产业逻辑，实现光刻产业的发展。
天风证券表示，国产光刻胶发展充满机遇，日本光刻胶产业集群的发展为国内光刻胶企业提供借鉴经验。
供给端，近日由于地震原因，光刻胶龙头信越化学停止供货部分晶圆厂光刻胶，在产线受到影响和晶圆厂扩产等多方因素下，信越化学已向中国大陆多家一线晶圆厂限制供货光刻胶，且已通知更小规模晶圆厂停止供货光刻胶。
需求端，国内中芯国际、华虹宏力、广州粤芯等多家国内晶圆厂也在积极扩产，国内光刻胶需求量远大于国产产量且差额连年增长，尤其在ArF、高端KrF等半导体光刻胶方面，国产替代需求迫切。
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