存储产能根本跟不上!美光警告:缺货将持续至2026年后

美光在摩根大通科技峰会上表示,受AI强劲需求驱动,HBM、DRAM及NAND的供应紧张局面预计将持续至2026年以后。供应扩张面临性能提升收窄、晶粒尺寸增大及EUV爬坡制约等结构性瓶颈,即便厂商全力推进产能建设,短期内仍难以填补AI带来的供给缺口。

AI算力军备竞赛正将全球存储芯片市场推向多年期的供应紧缺状态。

美光科技(Micron Technology)管理层在摩根大通年度科技峰会上表示,HBM、DRAM及NAND存储芯片的供应紧张局面预计将远远超出2026年,核心驱动力源自人工智能应用对高性能存储的强劲需求,而供应端受制于技术瓶颈难以快速扩产。

摩根大通在随后发布的投资报告中援引上述观点,并表示该行在听取美光管理层陈述后,对AI存储市场的多年牛市逻辑更具信心。供需缺口短期内难以逆转,这对存储行业投资者构成了明确信号。

供应扩张面临结构性制约

据摩根大通报告,美光指出存储市场供应紧张的成因具有结构性特征,并非单纯的产能周期问题。

具体而言,供给增长受限主要来自两方面:一方面,新一代存储芯片的性能提升幅度正逐步收窄,意味着仅靠技术迭代来扩大有效供给的空间已明显压缩。

另一方面,新一代HBM芯片的晶粒尺寸持续增大,导致单位晶圆产出的芯片数量下降,进一步削弱了供给弹性。此外,极紫外(EUV)光刻技术的引入虽有助于提升先进制程DRAM的制造精度,但同时也在产能爬坡速度与成本方面形成了新的约束。

上述因素叠加之下,即便存储厂商积极扩产,短期内仍难以快速填补AI需求所催生的供给缺口。

HBM4量产提速,1-gamma节点成历史最高产量节点

在产品进展方面,美光披露了若干关键信息。

美光管理层表示,受AI应用需求强劲拉动,公司1-gamma制程节点预计将成为其有史以来单位晶圆产出量最高的DRAM节点。HBM存储芯片通过将多层DRAM模块垂直堆叠封装而成,广泛应用于AI GPU,美光正持续将EUV光刻工艺整合至1-gamma节点的量产流程中。

在HBM产品迭代节奏上,美光透露HBM4的量产爬坡速度是HBM3的两倍。下一代HBM4E产品的量产爬坡预计于2027年启动,首批样品将采用基于1-gamma节点生产的DRAM模块。

AI推理需求扩张,带动SSD市场份额提升

除HBM与DRAM外,美光还指出AI工作负载的演变正在为其固态硬盘(SSD)业务创造新的增长机遇。

美光管理层表示,AI上下文窗口的持续扩大以及推理工作负载的快速增长,推动了对大容量、高性能存储的需求,公司借此在SSD市场实现了份额提升。

值得注意的是,美光强调其策略并非提供标准化现货产品,而是与客户深度协作,针对具体应用场景定制开发存储解决方案,这一模式有助于巩固客户粘性并提升产品溢价空间。

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