新一代EUV掩膜即将大批量供应，有望大幅提升芯片产量与尺寸

早在2019年，ASML就已经突出了首款EVU掩膜，并将技术授权给了三井化学。后者计划于2021年2季度开始量产销售，且ASML方面也未停止持续改进。外媒消息称，ASML已经展示了透射率高达90.6%的原型，其不均匀性控制在了0.2%以内，且能够在400W光源下将反射率控制在0.005%以下。（cnbeta）