近日，中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室提出一种基于虚拟边与双采样率像素化掩模图形的快速光学邻近效应修正技术（OPC），仿真结果表明该技术具有较高的修正效率。基于模型的OPC技术是实现90nm及以下技术节点集成电路制造的关键计算光刻技术之一。（中国科学院）
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