鼎龙股份公告，公司控股子公司武汉鼎泽新材料技术有限公司的氧化铝抛光液产品在某家公司28nm节点HKMG工艺的Al CMP制程验证通过。该产品使用氧化铝研磨粒子和高分子聚合物，是所有抛光液中技术最难的关键材料，公司已突破技术难关，实现三种关键材料的自主制备。该款搭载公司自制研磨粒子的抛光液产品，是目前尚未取得国产化材料突破的卡脖子抛光液型号之一，难度极高，其各项参数均达到客户应用要求，通过客户端全方面工艺参数验证，并已进入吨级采购阶段。
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