ASML回应荷兰半导体出口管制新规：并不适用于所有浸入式光刻设备

3月9日上午，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）发布声明表示，ASML预计必须申请许可证方可出口最先进的浸润式DUV设备。同时公司还表示“新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。”荷兰政府在3月8日表示，计划对半导体技术出口实施新的管制。（一财）