【半导体走到3nm制程节点不成问题】世界领先的独立纳米技术研究机构——IMEC的首席执行官Luc van den Hove日前表示，“scaling（尺寸缩小）还会继续，我不仅相信它将会继续，而且我认为它不得不继续。”他认为，目前从技术层面来说，FINFET、Lateral Nanowire（横向纳米线） 和Vertical Nanowire（纵向纳米线）已经可以帮我们持续推进到3nm的制程节点。EUV光刻技术将是未来的唯一选择。（中国电子报）
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